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    光學晶圓合格檢測方法分析

    發布時間:2021/8/20

    光學晶圓也稱為晶圓玻璃,晶圓級光學元件是利用半導體工藝在基片晶圓上產生微納結構而制成的微納光學元件。變色龍精密玻璃有限公司經營加工各類晶圓玻璃,歡迎大家聯系定制加工。

    先進的工藝意味著更復雜的圖案,而復雜的圖案也需要更精細的缺陷檢測技術。從紫外光(UV)到深紫外光(DUV),暗場(dark field)到亮場(bright field),光學晶圓檢測技術一直在半導體工藝的發展向前推進。在工藝研發,生產良率的提升,直至量產監測的一整套產品生命周期中,均起著不可替代的作用。

    晶圓玻璃

    光學晶圓

    將芯片測試結果與晶片上的其他芯片進行比較,有助于識別異常值,但將這些數據與異常值的正確位置相結合,可以更深入地理解錯誤的原因。

    異常值檢測的主要思想是在晶片上找到不同于所有其他晶片的東西。借助最先進的良率和測試管理數據分析平臺,在眾多芯片相鄰的環境中更容易執行這種操作,但仍然會變得復雜。甚至相鄰的定義也可能不同。

    光學晶圓空間的變化已經被用來識別和解決良率問題,但是它主要用于現場故障的事后分析。由于基于零件平均測試(PAT)的簡單異常值檢測技術缺乏有效平衡良率/質量/成本三角的本地化,因此產品和質量工程師越來越多地應用這種通過/失敗測試決策。

    PAT以外的技術依賴于多次測量、測試結果的算術運算,關注通過/失敗的區別和地理空間關系。但是,由于地理位置和相關測試結果也需要追加的工程資源,因此在高級節點和質量和可靠性的重要應用中成本上升。

    受識別下游故障的啟發,產品工程師在晶圓測試中尋求基于異常值的測試技術來篩選老化故障。當他們為測試逃生開發屏幕時,他們自然會轉向這些異常值測試技術。這是汽車芯片制造商的標準做法。他們一直在使用異常值測試技術,經常創新方法。目前,其他行業部門正在采用更積極的方法處理異常值測試技術。

    盡管異常檢測可能是抑制試驗逃逸的有效措施,但是我們可以看到更多的客戶在產品生命周期的早期就將異常檢測設計到他們的試驗過程中,以達到更高的出廠質量——不DFSolutions的Exensio解決方案總監GregPrewitt表示。

    片段位置:x,y和z


    晶圓上的同心圓和放射狀圖案

    采用地理空間異常值檢測技術,在晶片檢測后進行分析,因為在做出通過/失敗的決定時,需要考慮芯片及其相鄰的檢測結果。它需要額外的計算,良率/測試數據分析解決方案支持這些計算?赡苁荌DM自身的系統,也可能是IDM、代工廠或者無晶圓廠公司使用的第三方解決方案。根據具體技術,定義的鄰域會有所不同。通常這些都是直觀的。但是在先進的CMOS工藝節點上,鄰里的定義可能會變得復雜,這就需要對鄰里進行更微妙的定義。

    雖然業界正在努力實現光學晶圓的統一設備處理,但半導體制造工藝的性質產生了反映在多個制造指標中的地理模式。邊緣芯片的良性低于晶圓中心芯片。光刻膠的旋轉導致徑向區域。在光刻過程中,多芯片隱藏模板中所有芯片的焦點可能會稍微不均勻。

    利用較小的特征尺寸,這些微妙的影響更容易表現出來,晶片測試和之后的制造步驟中出現了失敗的芯片模型。工程師現在使用這些模型來決定設備的通過/失敗。

    在缺陷設備的測試中,缺陷通常分為隨機缺陷和系統缺陷。半導體技術的地理性質和缺陷密度管理的增加將重點轉移到系統缺陷上,晶片上的地理空間關系和制造技術發揮了作用。

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